下一代垂直Laue晶體定向系統 有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統允許實(shí)時(shí)晶體定向，精度低至0.1度。 單晶的電光特性強烈依賴(lài)于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線(xiàn)衍射圖案，從而能夠以?xún)?yōu)異的精度選擇正確的晶面。
下一代垂直Laue晶體定向系統 有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統允許實(shí)時(shí)晶體定向，精度低至0.1度。 單晶的電光特性強烈依賴(lài)于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線(xiàn)衍射圖案，從而能夠以?xún)?yōu)異的精度選擇正確的晶面。
l 系統通過(guò)*的實(shí)時(shí)數字化背向散射記錄勞厄衍射圖案。系統中心的6.2mm直徑的孔允許X射線(xiàn)通過(guò)相機并照射到被測晶體。因為系統的快速讀出速率和低噪聲。相機可以實(shí)時(shí)曝光（在犧牲分辨率條件下），也可以延長(cháng)高達20分鐘的曝光時(shí)間（全分辨率條件下）
標準背向反射X射線(xiàn)CCD 有效感光面積：155（h）x105（v）mm 最小輸入像元尺寸：57μmx57μm 像素分辨率：2774x1843 犧牲分辨率條件下，可以增加像元靈敏度
